Intel ir problēmas ar 10 nm mezgliem - EUV tehnoloģijas izstrāde varētu ilgt vairākus gadus

7 nm varēja atgrūst pat 2021. gadā

Intel

Intel ir vieni no pirmajiem uzņēmumiem, kas sāka attīstīt EUV tehnoloģiju jau pagājušā gadsimta 90. gados. Bet uzņēmums nav spējis piegādāt ārkārtēju ultravioleto litogrāfiju, veicot nelielus soļus šajā jomā.

Pēc elektronikas inženiera, Bernsteina analītiķa Marka Li domām, Intel, kādreiz lielākajam datoru mikroshēmu ražotājam atkal ir problēmas ar 10 nm mikroshēmām.

Uzņēmums drīzumā nevarēs ieviest EUV. Tehnoloģija ir plānota tās 7 nm mikroshēmām, kuras joprojām ir tālu, ņemot vērā, ka tām ir problēmas ar 10 nm. Tikmēr konkurējošie Samsung un TSMC cenšas uzlabot savu tehnoloģiju un gūt panākumus, lai nākamajos divos gados piegādātu EUV. Analītiķi uzskata, ka Intel ir zaudējis saikni un vairs nav ražošanas līderis, kāds tas bija kādreiz.

Marks Li uzskata, ka Samsung ieviesīs 7 nm pēc TSMC, taču tajā būs EUV.

Kas notika ar Intel 10 nm?

Intel problēma sākās ar vispārēju kavēšanos ar 10 nm līniju. Lai atrastu jaunu procesu mezglu un iegūtu papildu rīkus tiešsaistē, nepieciešami vairāki gadi. Tehnoloģijas uzņēmumi gadiem ilgi izstrādā plānus attiecībā uz katra mezgla īpašajām īpašībām.

Var modernizēt mezglu ar jaunām tehnoloģijām, taču process ir gan dārgs, gan laikietilpīgs. Intel kopš 2015. gada ir cīnījies ar 10 nm. Sākotnējais plāns sākt darbību 10 nm 2016. gadā neizdevās.

Plānots, ka 7 nm būs jāierodas līdz 2018. – 2019. Gadam, ieviešot EUV. Ja Intel spētu pieturēties pie sava laika skala, mēs jau tagad vai kaut kur ap Samsung un TSMC mezglu palaišanu būtu redzējuši Intel 7 nm EUV. TSMC pirmie 7 nm neizmantos EUV, bet vēlāk to darīs 7FF +.

Tiek ziņots, ka atšķirība starp 7FF un 7FF + ir neliela. Uzņēmums (TSMC) nav dalījies ar citām detaļām, izņemot to, ka sniegums ir “augstāks” nekā 7FF.

Tiek ziņots, ka patlaban Intel 7 nm ir aizkavējies līdz 2021. gadam, un tas notiek arī tad, ja uzņēmums var pārvaldīt savu ražošanu.